簡要介紹渦旋波片及其典型應(yīng)用領(lǐng)域
渦旋波片的技術(shù)說明
渦旋波片(Vortex Retarder,VR)是基于N-BK7玻璃基底和液晶聚合物(Liquid Crystal Polymers,LCP)材料制成,呈現(xiàn)為三明治結(jié)構(gòu),安裝于標(biāo)準(zhǔn)SM1透鏡套筒中。在LCP層中,液晶分子的快軸取向沿基片徑向一致,沿基片角向連續(xù)漸變。其在整個(gè)器件平面上具有相同的 λ/ 2 延遲量,為單波長器件。渦旋波片具有偏振相關(guān)的光學(xué)特性,根據(jù)入射光束偏振態(tài)的不同,可用于生成矢量偏振光束或具備螺旋相位波前的渦旋光束,可將TEM00模高斯光束轉(zhuǎn)換為“空心孔型”的拉蓋爾-高斯(Laguerre-Gaussian,LG)強(qiáng)度分布。相較于傳統(tǒng)的光場(chǎng)調(diào)控方式,渦旋波片具有高效穩(wěn)定、操作簡易、功能專一的優(yōu)勢(shì);其真零級(jí)特點(diǎn)也幫助實(shí)現(xiàn)了較低的波長敏感性、較高的溫度穩(wěn)定性和較大的入射角范圍。渦旋波片已經(jīng)成功應(yīng)用在量子光學(xué)、光場(chǎng)調(diào)控、大氣光通信、超分辨率成像、光鑷、精密激光加工等領(lǐng)域。
外觀結(jié)構(gòu)
1. 產(chǎn)品外觀
渦旋波片基于N-BK7玻璃基底和液晶聚合物雙折射材料,通過光控取向工藝制成,呈現(xiàn)為“前后玻璃襯底+中間LCP功能膜層”的三明治結(jié)構(gòu),安裝于標(biāo)準(zhǔn)SM1-8A透鏡套筒中。在SM1透鏡套筒上,標(biāo)注了產(chǎn)品的名稱、型號(hào),并用4條刻線標(biāo)記了渦旋波片的中心點(diǎn),同時(shí),用1個(gè)圓點(diǎn)標(biāo)記了1處0 °快軸方向(與所處位置徑向平行的液晶分子快軸取向,僅限于m≤8的標(biāo)品型號(hào)),方便用戶在光路系統(tǒng)中快速區(qū)分產(chǎn)品參數(shù)、進(jìn)行元件調(diào)試。
渦旋波片產(chǎn)品結(jié)構(gòu)
2. 快軸取向
在渦旋波片的LCP層中,液晶分子快軸取向沿基片徑向一致,沿基片角向連續(xù)漸變,其快軸取向具體遵循:
其中,m為渦旋波片的階數(shù),Φ為渦旋波片上特定位置的快軸方向,φ為特定位置上徑向與零度線的夾角,θ為零度線上的快軸方向。
渦旋波片快軸取向示例,m=1、2、4、8
光學(xué)特性
1. 偏振相關(guān)的相位調(diào)制特性
當(dāng)入射光為線偏振光時(shí),渦旋波片能夠產(chǎn)生矢量偏振光束,即光束橫截面上每一點(diǎn)的偏振方向呈現(xiàn)為非均勻分布的線偏振光束。當(dāng)使用m=1渦旋波片時(shí),有兩種較為特殊的情況:若入射線偏振光的偏振方向平行于m=1渦旋波片的0 °快軸,則出射光束為徑向偏振光束,即光束橫截面上每一點(diǎn)的線偏振方向均與徑向平行;若入射線偏振光的偏振方向垂直于m=1渦旋波片的0 °快軸,則出射光束為角向偏振光束,即光束橫截面上每一點(diǎn)的線偏振方向均與徑向垂直。
徑向和角向偏振光束生成示意
當(dāng)入射光為圓偏振光時(shí),渦旋波片能夠產(chǎn)生具備螺旋相位波前的渦旋光束,且出射渦旋光束的圓偏振態(tài)與入射時(shí)相反,即:當(dāng)入射光為左旋圓偏振光時(shí),渦旋波片能夠產(chǎn)生l=m的右旋圓偏振渦旋光束;當(dāng)入射光為右旋圓偏振光時(shí),渦旋波片能夠產(chǎn)生l=-m的左旋圓偏振渦旋光束。
渦旋光束生成示意
2. 光束能量分布轉(zhuǎn)換特性
渦旋波片可以將入射的TEM00模高斯光束轉(zhuǎn)換為“空心孔型”的拉蓋爾-高斯強(qiáng)度分布。對(duì)于不同階數(shù)m的渦旋波片,m值越小,則出射光束中心孔的尺寸越小;反之,m值越大,則出射光束中心孔的尺寸越大。
不同階數(shù)m渦旋波片的出射光強(qiáng)度分布對(duì)比
參數(shù)說明
1. 階數(shù)m
階數(shù)m即拓?fù)浜蓴?shù)。m每增加1,則渦旋波片的快軸變化增加180 °。對(duì)于不同階數(shù)m的渦旋波片:
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在生成矢量偏振光束時(shí),能夠得到不同的線偏振態(tài)分布——m每增加1,則矢量偏振光束的線偏振方向變化增加360 °;
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在生成渦旋光束時(shí),能夠得到l=±m(xù)的渦旋光;
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當(dāng)在意出射光束的能量分布時(shí),所選取的渦旋波片階數(shù)m越小,則光束中心孔尺寸越小。
2. 延遲量相關(guān)參數(shù)
渦旋波片,即聚合物真零級(jí)渦旋半波片,是基于其整個(gè)器件平面上雙折射LCP層的λ/2延遲量,即對(duì)尋常光o光和非常光e光的光程差調(diào)制,以及衍射光學(xué)原理來實(shí)現(xiàn)其功能的。因此:
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渦旋波片是有明確工作波長的單波長器件。當(dāng)入射光波長與器件工作波長不一時(shí),LCP層將不再產(chǎn)生理想的λ/2光程差。從出射效果上來看,光束各點(diǎn)的偏振態(tài)會(huì)由較為理想的線偏振或圓偏振趨向于橢圓偏振;“中心孔型”強(qiáng)度分布的光束,其外圈亮環(huán)與中空部分的對(duì)比度也會(huì)有所下降;
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為了保證預(yù)期的雙折射特性,我們將渦旋波片成品的延遲量精度及均勻性限定在±5 nm內(nèi),例如,對(duì)于工作波長λ=532 nm的渦旋波片,其LCP層延遲量的合格標(biāo)準(zhǔn)為266±5 nm。對(duì)于m=1、2的渦旋波片,我們能夠確保其轉(zhuǎn)換效率≥99.5%(拉蓋爾-高斯光束的能量占透過光總能量之比);
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在非正入射條件下,渦旋波片的等效延遲量相對(duì)λ/2會(huì)出現(xiàn)一定偏差,比起膠合零級(jí)波片,“真零級(jí)”特性使得渦旋波片有著較大的入射角范圍。經(jīng)測(cè)定,入射角在±20 °以內(nèi)時(shí),前述偏差在可允許范圍內(nèi)。
3. 快軸精度
基于部分型號(hào)渦旋波片的快軸敏感性和客戶的使用便易性考慮,我們進(jìn)行了以下幾種情況的快軸標(biāo)定:
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對(duì)于m為奇數(shù)的渦旋波片標(biāo)品及定制產(chǎn)品,其具有快軸敏感性。我們?cè)跈C(jī)械外殼上用1個(gè)圓點(diǎn)標(biāo)記了1處0 °快軸,圓心角快軸精度為±1 °,對(duì)應(yīng)取向角快軸精度為0.5×m °,m為渦旋波片階數(shù);
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對(duì)于m=2的渦旋波片標(biāo)品,其液晶分子快軸取向始終平行于徑向,因此不具有快軸敏感性。我們將其快軸精度定義為液晶分子快軸取向與徑向的夾角上限,為±1 °;
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對(duì)于m≠2且為偶數(shù)的渦旋波片標(biāo)品及定制產(chǎn)品,其不具有快軸敏感性。我們?nèi)栽跈C(jī)械外殼上用1個(gè)圓點(diǎn)標(biāo)記了1處0 °快軸,圓心角快軸精度為±1 °,對(duì)應(yīng)取向角快軸精度為0.5×m °,m為渦旋波片階數(shù)。
當(dāng)m>10時(shí),取向角快軸精度已增大至5 °,對(duì)客戶的使用便易性意義不大。因此,以上快軸標(biāo)定及精度限制僅限于m≤10的渦旋波片產(chǎn)品型號(hào)(包括標(biāo)品及非標(biāo)品)。
4. 中心偏移量
對(duì)于理想的渦旋波片,其液晶分子快軸取向的變化中心應(yīng)位于基片圓心處,過大的中心偏移量將不利于渦旋波片的入射光中心對(duì)準(zhǔn),尤其是用于同軸系統(tǒng)中時(shí)。因此,我們將渦旋波片的中心偏移量限定在0.5 mm以內(nèi)。更精確的中心對(duì)準(zhǔn)調(diào)節(jié),可以通過我們的xy位移調(diào)整架TXY1來實(shí)現(xiàn)。
關(guān)于中心對(duì)準(zhǔn):當(dāng)入射光沒有對(duì)準(zhǔn)渦旋波片中心時(shí),其出射光的環(huán)形強(qiáng)度分布會(huì)出現(xiàn)明顯的不對(duì)稱現(xiàn)象,即所謂“月牙形強(qiáng)度分布”,如下圖所示。通過觀察出射光的分布強(qiáng)度,將渦旋波片向出現(xiàn)“月牙形強(qiáng)度分布”的方向調(diào)節(jié),即可得到較佳的中心對(duì)準(zhǔn)效果。
5. 入射光尺寸
渦旋波片入射光的尺寸上限受器件通光孔徑限制,為?21.5 mm;尺寸下限受器件中心奇點(diǎn)尺寸限制,根據(jù)不同型號(hào)渦旋波片的中心奇點(diǎn)情況,我們對(duì)入射光尺寸下限做出如下建議:
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?0.05 mm(m≤2);
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?0.15 mm(m≤8);
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?0.3 mm(m≤32);
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?0.5 mm(m>32)。
6. 損傷閾值
基于LCP材料的短波強(qiáng)吸收特性,渦旋波片的工作波長越大,其損傷閾值會(huì)有所增加。經(jīng)實(shí)測(cè),渦旋波片的損傷閾值參考值(線功率密度)為:
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5 W/cm(CW,@450 nm);
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100 W/cm(CW,@532 nm);
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1000 W/cm(CW,@1064 nm)。
對(duì)于皮秒、飛秒激光光源,損傷閾值參考值為:
780-1030 nm——
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0.807J/cm^2@980nm,190fs,50kHz,?12.684μm (Single Pulse) - The damage threshold is not reached;
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0.807J/cm^2@980nm,190fs,100Hz,?12.684μm (100 Pulses) - The damage threshold is not reached.
1053-1550 nm——
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0.503J/cm^2@1550nm,190fs,50kHz,?11.47μm (Single Pulse) - The damage threshold is not reached;
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0.503J/cm^2@1550nm,190fs,100Hz,?11.47μm (100 Pulses) - The damage threshold is not reached.
渦旋波片的優(yōu)勢(shì)
相較于空間光調(diào)制器(Spatial Light Modulator,SLM),渦旋波片:
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平板結(jié)構(gòu),更易集成;
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光-光轉(zhuǎn)換,高效快速,調(diào)制穩(wěn)定;
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不依賴復(fù)雜外部信號(hào)控制和輔助設(shè)備,操作簡單;
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功能專一性好,對(duì)于特定需求的光場(chǎng)調(diào)控場(chǎng)景,價(jià)格更低。
相較于傳統(tǒng)螺旋相位板,渦旋波片:
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偏振相關(guān),攜帶偏振信息,可生成矢量偏振光束;
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聚合物材料,真零級(jí)特性——較低的波長敏感性、較高的溫度穩(wěn)定性和較大的入射角范圍。
如何選擇渦旋波片關(guān)鍵參數(shù)
1.階數(shù)m
階數(shù)m即拓?fù)浜蓴?shù)。m每增加1,則渦旋波片的快軸變化增加180 °。對(duì)于不同階數(shù)m的渦旋波片:
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在生成矢量偏振光束時(shí),能夠得到不同的線偏振態(tài)分布——m每增加1,則矢量偏振光束的線偏振方向變化增加360 °;
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在生成渦旋光束時(shí),能夠得到l=±m(xù)的渦旋光;
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當(dāng)在意出射光束的能量分布時(shí),所選取的渦旋波片階數(shù)m越小,則光束中心孔尺寸和形狀越小、越圓,反之則越大、越橢。
2.工作波長λ
聚合物真零級(jí)渦旋半波片,是基于其整個(gè)器件平面上雙折射LCP層的λ/2延遲量,即對(duì)尋常光o光和非常光e光的光程差調(diào)制,以及衍射光學(xué)原理來實(shí)現(xiàn)其功能的。
因此,渦旋波片是有明確工作波長的單波長器件。當(dāng)入射光波長與器件工作波長不一時(shí),LCP層將不再產(chǎn)生理想的λ/2光程差。從出射效果上來看,光束各點(diǎn)的偏振態(tài)會(huì)由較為理想的線偏振或圓偏振趨向于橢圓偏振;“中心孔型”強(qiáng)度分布的光束,其外圈亮環(huán)與中空部分的對(duì)比度也會(huì)有所下降。
建議您選用工作波長λ與光源中心波長盡可能接近的型號(hào)。
渦旋波片的應(yīng)用案例
1. 激光加工
徑向偏振光形成的特殊聚焦光場(chǎng)具有穿透性強(qiáng)、光強(qiáng)高度集中等特殊性質(zhì),加之其獨(dú)特的空間結(jié)構(gòu),使得徑向偏振光在金屬加工等對(duì)偏振特性要求較高的場(chǎng)景下的加工效率約為圓偏振光的2倍。角向偏振光的聚焦光場(chǎng)相比于其它偏振態(tài)分布能夠獲得更高的寬深比,可以用于加工寬深比要求較高的微孔;除此之外,使用角向偏振光時(shí),可以有效增加超快激光成絲的長度,從而提高激光精密加工的性能和效率,在玻璃切割、半導(dǎo)體加工、精密激光打孔等方面有具有明顯優(yōu)勢(shì)。
徑向偏振光與角向偏振光加工深度對(duì)比
2. 光鑷系統(tǒng)
在LG光束中,每個(gè)光子均具有軌道角動(dòng)量,且能夠通過傳遞給被照明的粒子從而引起特定粒子的旋轉(zhuǎn)。利用具有角動(dòng)量的光束與原子、 微米或納米粒子、 生物大分子間的相互作用,可以囚禁或旋轉(zhuǎn)這些粒子,實(shí)現(xiàn)所謂的“光學(xué)鑷子”或“光學(xué)扳手”功能。
基于渦旋波片的光鑷系統(tǒng)
3. 超分辨顯微成像系統(tǒng)
LG光束作為一種具有中心奇點(diǎn)的光束,可以用于超分辨顯微成像系統(tǒng)(STED)。如圖示,激發(fā)光源為TEM00模高斯光束,抑制激發(fā)光源為LG光束,其中標(biāo)注為VPP的元件可選用渦旋波片、螺旋相位板、空間光調(diào)制器等。當(dāng)激發(fā)光束與抑制激發(fā)光束同時(shí)被物鏡聚焦于成像面上,只被激發(fā)光源照射到的中心區(qū)域被激發(fā)的熒光波長為λ1,而同時(shí)被激發(fā)光束與抑制激發(fā)光束照射的環(huán)形區(qū)域所激發(fā)熒光波長為λ2?;诠鈱W(xué)衍射極限原理,激發(fā)光源光斑及抑制激光光束尺寸均滿足衍射極限,因此被激發(fā)波長為λ1的熒光中心區(qū)域小于光學(xué)衍射極限。根據(jù)共聚焦的光學(xué)結(jié)構(gòu),兩束激發(fā)熒光同時(shí)被物鏡收集。而在APD探測(cè)器之前添加窄帶濾光片,可以保證只有波長為λ2的熒光被成像。由此實(shí)現(xiàn)該顯微鏡成像精度超過普通光學(xué)顯微鏡的衍射極限。
超分辨顯微成像系統(tǒng)示意
4. 其他應(yīng)用方向
LG光束可以作為OAM(Orbital Angular Momentum of Light)的載體,因此可以應(yīng)用到與OAM相關(guān)的領(lǐng)域,包括光操控、非線性光學(xué)、光通訊、材料加工、成像等領(lǐng)域;對(duì)于高純度的LG光束,在傳播過程中可通過透鏡整形復(fù)原復(fù)振幅分布,具有角向和徑向兩個(gè)量子數(shù),具有最佳的光束品質(zhì)因子,傳播過程中可以保持很好的環(huán)形光強(qiáng)分布等,這些優(yōu)勢(shì)使得LG模式可以應(yīng)用到精密測(cè)量和探測(cè)領(lǐng)域;高階LG模式可以有效地減小高功率激光對(duì)鏡片產(chǎn)生的熱效應(yīng),對(duì)于具有相同束腰w0和相同能量的LG光束而言,在相同橫截面處光斑的直徑與(2p+| l |+1)/2 成正比,因此能量密度與M2=2p+| l |+1 成正比,所以隨著l和p的增大,功率密度越來越小,鏡片產(chǎn)生的熱噪聲也越小,LG光束的這個(gè)特點(diǎn)可被應(yīng)用到引力波探測(cè)裝置LIGO系統(tǒng)上;LG光束的指數(shù)也被證明具有量子特性,因此,在量子信息領(lǐng)域,高純度的LG光束可以提高混合徑向和角向的量子關(guān)聯(lián)。