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半導(dǎo)體用干式激光清洗解決方案

時(shí)間:2025-06-24 來(lái)源:新特光電 訪問(wèn)量:1024

人工智能(AI)驅(qū)動(dòng)應(yīng)用需求的不斷增長(zhǎng),加劇了對(duì)可擴(kuò)展、高性能計(jì)算和網(wǎng)絡(luò)解決方案的需求。隨著共封裝光學(xué)(CPO)技術(shù)對(duì)于滿足這些需求變得至關(guān)重要,迫切需要更高效、更具成本效益的 CPO 組件制造方法。優(yōu)化生產(chǎn)工藝和提高良率對(duì)于確保可擴(kuò)展性、降低成本以及滿足 AI 驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)日益增長(zhǎng)的性能要求至關(guān)重要。

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為何選擇 3 μm?

激光清潔是一種高效、精確的方法,可選擇性地去除基板上的殘留物和污染物,而不會(huì)損壞下層表面。在 2.8 μm 波長(zhǎng)下,許多有機(jī)材料(如油脂和某些聚合物)在污染物和基板之間表現(xiàn)出高對(duì)比度的峰值吸收。這使得激光能量能夠精確地作用于目標(biāo)殘留物,將其燒蝕去除,同時(shí)保持基板完好無(wú)損。

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高效、精確的工藝:

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激光清潔解決方案:

我們推出了 NANO-2800,這是其首款專(zhuān)為工業(yè)應(yīng)用設(shè)計(jì)的脈沖光纖激光器。結(jié)合其先進(jìn)的清潔頭,這一創(chuàng)新解決方案在去除半導(dǎo)體(Si、SiN、InP、SiC)或玻璃(熔融石英)上的油脂和其他污染物等殘留物方面表現(xiàn)出色。

激光源主要特點(diǎn):

  • 單模輸出

  • 光束質(zhì)量 (M2) < 1.3 

  • 高重復(fù)率和脈沖能量

光纖準(zhǔn)直器主要特點(diǎn):

  • 堅(jiān)固的光機(jī)電模塊

  • 極低的脈沖間噪聲

激光頭主要特點(diǎn):

  • 大視角

  • 多種光斑尺寸

  • 精確掃描

  • 可根據(jù)客戶集成需求定制

適用于多種污染物

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關(guān)鍵特性:

  • 不損傷基板

  • 選擇性激光加工

  • 高精度

  • 非研磨干式工藝

  • 環(huán)保

關(guān)鍵優(yōu)勢(shì):

  • 高效且精準(zhǔn)

  • 自動(dòng)化工藝

  • 提高生產(chǎn)良率

  • 可集成到當(dāng)前或現(xiàn)有的半導(dǎo)體制造系統(tǒng)中

我們的工藝開(kāi)發(fā)優(yōu)勢(shì):

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我們?cè)O(shè)有專(zhuān)門(mén)的應(yīng)用實(shí)驗(yàn)室,配備不同的移動(dòng)平臺(tái)和計(jì)量設(shè)備,旨在我們的場(chǎng)地內(nèi)全面測(cè)試并展示目標(biāo)應(yīng)用。實(shí)驗(yàn)室旨在模擬真實(shí)世界條件,使我們能夠評(píng)估性能、完善解決方案,并有效展示該應(yīng)用如何滿足特定需求。

我們與客戶合作,通過(guò)集成我們的激光清潔解決方案來(lái)優(yōu)化他們的制造工藝。我們的專(zhuān)業(yè)能力確保無(wú)縫集成,提高效率,并解決特定的運(yùn)營(yíng)挑戰(zhàn)。

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